Инверсный дизайн с учетом требований производства и оптимизацией формы фотонных интегральных схем — PubMed

Инверсное проектирование (ID) — это вычислительный метод, который систематически исследует пространство проектирования для поиска оптимальной геометрии устройства на основе конкретных критериев производительности. В кремниевой фотонике ID часто приводит к появлению конструктивных особенностей, которые значительно ухудшаются в результате производственного процесса, что ограничивает применимость этих устройств в масштабируемом производстве. Мы демонстрируем решение этой проблемы снижения производительности с помощью обратного проектирования с учетом производства (FAID), интеграции литографических моделей для литографии в глубоком ультрафиолете (DUV) и электронно-лучевой литографии (EBL) в подход к оптимизации формы внутреннего диаметра. Насколько нам известно, с помощью этого нового подхода были созданы и изготовлены Y-ветвь и преобразователь субволновой решетки (SWG) в диапазон. Результаты моделирования и измерений подтверждают, что FAID производит устройства с вносимыми потерями на 0,7 дБ ниже на устройство. Модифицированный рабочий процесс позволяет дизайнерам использовать ID для создания устройств, которые корректируются с учетом отклонений процесса, прогнозируемых литографическими моделями.